光刻胶是什么材料？未来中国光刻胶市场前景分析

　　什么是光刻胶及市场规模

　　光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体。其组成部分包括：光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂。光刻胶可以通过光化学反应，融易资讯网（www.ironge.com.cn），经曝光、显影等光刻工序将所需要的微细图形从光罩（掩模版）转移到待加工基片上。依据使用场景，这里的待加工基片可以是集成电路材料，显示面板材料或者印刷电路板。

　　受益于半导体、显示面板、PCB 产业东移的趋势，自 2011 年至今，光刻胶中国本土供 应规模年华增长率达到 11%，高于全球平均 5%的增速。2019年中国光刻胶市场本土企业销售规模约70亿元，全球占比约10%，发展空间巨大。

　　光刻胶行业由于技术壁垒高并且要与光刻设备协同研发，呈现出寡头竞争的格局。全球主要供应企业包括日本合成橡胶、东京日化、罗门哈斯、日本信越和富士电子材料，占据全球87%的市场份额。

　　国内目前半导体光刻胶供应商主要包括晶瑞股份、北京科华、南大光电等。晶瑞股份i线光刻胶量产，KrF光刻胶处于研发阶段。北京科华KrF光刻胶已向中芯国际等企业供货，ArF光刻胶处于研发阶段。南大光电拟在宁波经济开发区建设25吨KrF光刻胶。

　　南大光电：2020年12月17日，南大光电发布公告称，子公司宁波南大光电自主研发的ArF光刻胶产品近日成功通过客户的使用认证，成为国内通过产品验证的第一款国产ArF光刻胶，为全面完成02专项目标奠定了坚实的基础。以光刻胶为代表的半导体关键技术的自主可控已经不是一个单纯的是否赚钱的经济问题，而是关乎产业生死存亡的战略要务。南大光电ArF光刻胶顺利通过客户验证，对企业发展来说，仅仅是一小步，但对半导体核心技术国产化来说，却是一大步，意义鲜明。

　　彤程新材：年中，公司全资子公司上海彤程电子材料有限公司受让北京科华微电子材料有限公司33.70%的股权并完成工商变更登记。科华微电子是一家产品覆盖KrF（248nm）、I-line、G-line、紫外宽谱的光刻胶及配套试剂供应商与服务商，也是集先进光刻胶产品研、产、销为一体的拥有自主知识产权的高新技术企业。科华微电子产品技术先进，拥有国内或国际专利数项，产品质量稳定，是中芯国际、华润上华、杭州士兰、吉林华微电子、三安光电、华灿光电、德豪光电等行业顶尖客户的稳定合作伙伴。此次入股科华微电子，将继续完善公司在半导体领域的布局，进一步彰显出了公司进军电子化学品领域的决心。